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超臨界晶析装置 超臨界晶析装置


■概 要
超臨界流体の特徴を最大限に活かして、ナノテクノロジーへの挑戦が続けられています。超臨界流体を品析溶媒として用いた場合、制御方法として圧力因子が加わります。過飽和度は僅かな圧力変化によって大きく変化し、系の状態は極めて短時間に均一に変化します。微粒子や超微粒子の材料製造技術として、材料分野のみならず、医薬品や香粧品などへも応用が広がっています。
( 1 ) 急速膨張法
( RESS:Rapid Expansion of Supercritical Solutions)
超臨界流体中に目的物質を溶解させ、ノズルを通して減圧させるものです。
減圧により、目的物質の溶解度は急激に減少し、結晶の析出が起こります。
薄膜化技術としても利用され、懸濁溶液法(PGSS) や水溶液噴射法(RESAS) などの応用プロセスも検討されています。
(2) 貧溶媒化法(GAS:Gas Anti-Solvent Recrystallizatio)
目的物質が溶解した溶液中に、目的物質を溶解しにくい溶媒(貧溶媒;超臨界流体)を加える方法です。溶液中に超臨界流体が溶け込むことにより、目的物質の溶解度が減少し、結晶化・析出されます。又、ASESやSEDS、PCAなど、超臨界流体や溶液の導入方法を種々工夫した方法が開発されています。

■設計仕様 ■構成機器 ▲PAGE TOP